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1100℃大口径真空管式炉
型号：
T12152C
用途：
此设备是专门为大工件或大批量热处理生产而研发制造的。
规格：
Φ152*1650mm
特点：
152mm超大管径，1100mm超长温区。
1100℃高温高压管式炉
此款炉管采用无缝镍基合金管,此款设备专为高温高压实验设计，最高压力高达21MPa，最高温度可达1100℃，并可通入多种氧化或惰性保护气体。对于高压制备新材料和作为小型热等静压处理合金样品，这是一款理想的高温管式炉。
1200℃ 12L箱式炉
型号：
M1220
用途：
广泛用于粉末冶金行业、科研院所以及义齿加工行业的中高温烧结、烘烤、退火、氧化锆盘预烧结等。
规格：
200*200*300
特点：
炉膛容积大，实验室与生产企业均可使用.
1200℃ 4.5L箱式炉
型号：
M1215
用途：
1200℃以下常规环境下烧结与退火，也可进行灰分烧结实验
规格：
100～1200℃
特点：
温度精准，经济实惠
1200℃ mini型真空管式炉
型号：
T1250S
用途：
物理/化学气象沉积（CVD/PVD）实验以及真空/气氛保护烧结、纳米材料制备等。
规格：
Φ50*600mm
特点：
较小的炉膛不仅使得温度控制更加精准而且具有好的稳定性
1200℃ mini混合炉
型号：H1210 它有一个100*100*100mm的小炉膛，因而温度控制更加容易，温场热分布更均匀。
它既可以作为真空气氛炉使用，也可以作为普通马弗炉使用。拿出管子放入一个隔热堵头就变为一个马弗炉。
1200℃ mini箱式炉
型号：
M1210
用途：
广泛用于实验室用烧结与退火、义齿加工行业的烘烤、锆盘预烧结等。
规格：
炉膛尺寸为100*100*100mm
特点：
结构小巧、重量轻、便于实验室使用。
1200℃ 井式气氛炉
此款井式气氛炉集控制系统与炉膛为一体。其炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控镶嵌进口电阻丝，超大口径的石英炉腔和真空水冷密封法兰系统，可以在流动气氛和真空状态下快速加热样品，能很好的替代真空箱式炉。炉子上部配有泄压阀，很好了保证在通气氛使用情况下的安全。
1200℃三温区管式炉
型号：
T1280C
用途：
某些热处理实验有时需要一个或多个温度梯度，比如CVD等镀膜试验。如此就会用到多温区的管式炉。
规格：
Φ60*1400mm
特点：
三个温区分别控制，互不影响。
1200℃单温区真空管式炉
型号：
T1260A
用途：
真空或气氛保护状态下烧结，CVD薄膜实验等
规格：
Φ50*1000，Φ60*1000，Φ80*1000，Φ100*1000
特点：
它集控制系统与炉膛为一体，外型精简大方，炉膛可打开。
1200℃双温区管式炉
1200℃双温区管式炉，其最高温度可达到1200℃，并可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制，而且都为PID30段程序化控温。此系列管式炉可以用CVD方法来生长纳米材料和制备各种薄膜。
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